关键词：硅微透镜阵列;光刻胶热熔法;电感耦合等离子体刻蚀;刻蚀缺陷
摘 要：开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法，实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中，对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行了深入的研究。最终确定了最优的工艺参数，制备了孔径在20～90μm、表面质量高的硅微透镜阵列。
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