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In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP(001)薄膜表面重构的研究
作者:周海月;赵振;郭祥;魏文喆;王一;黄梦雅;罗子江;丁召; 加工时间:2016-04-18 信息来源:材料导报
关键词:STM;In0.53Ga0.47As薄膜;As4BEP;表面重构
摘 要:通过扫描隧道显微镜(STM)以及反射式高能电子衍射(RHEED)对在不同As4等效束流压强(As4BEP)下生长的In0.53Ga0.47As薄膜表面重构进行研究。研究发现在两种As4BEP条件下,样品表面重构都以(4×3)/(n×3)为主,并存在c(6×4)、β2(2×4)以及α2(2×4)三种重构类型。和低As4BEP条件相比,高As4BEP条件下反射式高能电子衍射仪图像更加清晰,高分辨率的STM扫描图片也能够分辨出各种重构类型。对高分辨率的STM扫描图像进行进一步分析得到,随着As4BEP的升高,β2(2×4)重构类型明显减少,这是由于高As4BEP减少In偏析,从而抑制β2(2×4)重...
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