预制层结构成分对溅射后硒化制备CIGS薄膜的影响
作者单位：王卫兵,WANG Weibing(上海理工大学机械工程学院,上海,200093)刘平,李伟,马凤仓,刘新宽,何代华,LIU Ping,LI Wei,MA Fengcang,LIU Xinkuan,HE Daihua(上海理工大学材料科学与工程学院,上海,200093)
加工时间：2013-12-15
信息来源：材料导报
关键词：CIGS;磁控溅射;CIG预制层
摘 要：采用磁控溅射法制备了不同结构成分的铜铟镓(CIG)预制层,对预制层进行硒化得到铜铟镓硒(CIGS)薄膜.采用XRD、SEM及EDS研究了CIG预制层的结构成分对CIGS薄膜的组织与结构的影响.结果表明,不同结构成分的CIG预制层经过硒化后得到的CIGS薄膜中各元素的成分比例差别不大；采用Ga浓度相对较高的CuGa靶制备的两层结构的CIG预制层经硒化后生成的CIGS薄膜,其(112)面择优取向比较明显,晶粒尺寸相对较大.
027-87841330