关键词：锗硅碳(SixGe1-xC0.02)；化学气相沉积(CVD)；外延Ge；石墨烯；热稳定性
摘 要：基于锗衬底在石墨烯生长方面的自限制生长和表面催化特性,以甲烷(CH4)和氢气(H2)为前驱体,采用化学气相沉积(CVD)法分别在锗硅碳(SixGe1-xC0.02)(x=0.15,0.25,0.73)衬底和外延锗上直接生长石墨烯。研究了不同Si组分、H2与CH4体积流量比和生长温度对石墨烯质量的影响。利用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)以及喇曼光谱对衬底和生长的石墨烯进行了表征分析。喇曼光谱结果表明,Si0.15Ge0.85C0.02衬底在750℃下可以生长出石墨烯,调节气体H2与CH4的体积流量比为50∶0.5时,生长出的石墨烯是双层的。OM和SEM结果表明,锗硅碳衬底具有比锗更...
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