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Sn掺杂Ga_(1.375)In_(0.625)O_3透明导电氧化物的第一性原理计算
作者:赵银女; 加工时间:2015-03-15 信息来源:材料科学与工程学报
关键词:Sn掺杂Ga1.375In0.625O3;电子结构;第一性原理;掺杂位置
摘 要:用第一性原理计算了Sn替位Ga1.375In0.625O3化合物的Ga原子(Ga1.25In0.625Sn0.125O3)和Sn替位Ga1.375In0.625O3化合物的In原子(Ga1.375In0.5Sn0.125O3)的结构、电子能带和态密度。Ga1.25In0.625Sn0.125O3半导体材料比Ga1.375In0.5Sn0.125O3材料具有大的晶胞体积和强的Sn-O离子键。在Sn掺杂Ga1.375In0.625O3半导体中,Sn原子优先取代In原子。Sn掺杂Ga1.375In0.625O3半导体显示n型导电性,杂质能带主要由Sn 5s态组成。Ga1.375In0.5Sn0.12...
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