涤纶基布磁控溅射铜膜及其电磁屏蔽性能
作者单位：孟灵灵,MENG Ling-ling(盐城工学院纺织服装学院,江苏盐城224051;江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡214122)黄新民,HUANG Xin-min(盐城工学院纺织服装学院,江苏盐城,224051)魏取福,WEI Qu-fu(江南大学生态纺织教育部重点实验室,江苏无锡,214122)
加工时间：2014-04-15
信息来源：印染
关键词：功能性整理;磁控溅射;涤纶;纳米铜膜;电磁屏蔽;functional finish;magnetron sputtering;polyester;nanoscale copper film;electromagnetic shielding
摘 要：以不同组织结构的涤纶织物为基材,采用射频磁控溅射技术沉积纳米铜膜,研究织物结构对金属薄膜表面形貌、粗糙度和晶态结构的影响,并测试分析了表面磁控溅射纳米铜膜的涤纶织物电磁屏蔽性能.结果显示,非织造布、纳米纤维膜表面沉积的纳米铜膜颗粒平均粒径及其表面的粗糙度值较大,Cu(111)晶面上结晶度较高;在孔隙率较小且纤维紧密连接的非织造布表面沉积纳米铜膜,其纤维表面形成连续导电网络,表现出优良的屏蔽效果.
027-87841330