90 nm CMOS 工艺下 3×VDD 容限静电检测电路
作者:杨兆年;刘红侠;朱嘉
加工时间:2015-01-15
信息来源:西安电子科技大学学报
关键词:检测电路;静电泄放(ESD);反馈;泄漏特性;叠加晶体管
摘 要:提出一种90-nm 1.2-V CMOS工艺下只用低压器件的新型3×VDD容限的静电检测电路。该电路利用纳米工艺 MOSFET 的栅极泄漏特性和反馈技术控制触发晶体管并进而开启箝位器件(可控硅整流器)。同时采用多级叠加结构以承受高电压应力。在静电放电时,该电路能产生 38mA 触发电流。在3×VDD电压下工作时,每个器件都处于安全电压范围,25 °C时漏电流仅为52nA。仿真结果表明该检测电路可成功用于3×VDD容限的接口缓冲器。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取