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叠层结构对Cu/In预制膜微观结构的影响
作者单位:湘潭大学低维材料及其应用技术教育部重点实验室,湘潭411105;湘潭大学材料与光电物理学院,湘潭411105 加工时间:2013-11-15 信息来源:材料导报
关键词:电沉积;叠层结构;Cu/In预制膜;热处理;electrodeposition;laminated construction;Cu/In precursor;heat treatment
摘 要:采用超声波-脉冲直流电沉积的方法在钼基底上制备了两种不同叠层结构的Cu/In预制膜:Cu/In多层膜和Cu/In双层膜,经过随后的热处理得到了Cu/In合金膜.通过XRD、SEM等对比研究了这两种Cu/In预制膜热处理前后的表面形貌、成分和相结构特征.结果表明:采用Cu/In多层膜制备的Cu/In合金膜表面更致密、平滑,成分分布更均匀,所用的热处理时间短且显著减少了In元素的挥发损失,更利于薄膜原子比的精确控制.
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