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镁合金AZ91D化学机械抛光工艺研究
作者:黄华栋;卞达;杨大林;赵永武;吴冬燕; 加工时间:2017-01-10 信息来源:现代制造工程
关键词:化学机械抛光;镁合金;工艺参数;表面粗糙度
摘 要:将化学机械抛光技术(Chemical Mechanical Polishing,CMP)引入到镁合金片的抛光中,以硅溶胶、表面活性剂、螯合剂及p H调节剂为原料,以涡流搅拌的方法制备镁合金(AZ91D)抛光液。采用单因素法分析抛光过程中压力、转速、抛光液流量及抛光时间等参数对抛光效果的影响。实验结果表明:在压力为0.06MPa,抛光盘上盘转速为10r/min、下盘转速为50r/min,抛光液流量为160m L/min,抛光时间为8min的条件下,镁合金表面形貌良好;在此工艺条件下经过化学机械抛光后,镁合金表面粗糙度Ra能达到10nm。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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