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Au掺杂碲镉汞气相外延生长及电学性能
作者:王仍;焦翠灵;徐国庆;张莉萍;张可锋;陆液;杜云辰;邵秀华;林杏潮;李向阳; 加工时间:2016-02-20 信息来源:红外与毫米波学报
关键词:Hg1-xCdxTe晶体;磁输运;迁移率谱;二次离子质谱
摘 要:采用气相外延技术生长Au掺杂的Hg_(1-x)Cd_xTe薄膜材料,利用范德堡法对薄膜材料进行电学性能表征.通过变温霍尔测量,分析了常规Au掺杂p型薄膜的霍尔系数和霍尔迁移率随温度的变化,利用二次离子质谱(SIMS)分析薄膜中Au的纵向分布趋势.讨论了三种反常p型薄膜的霍尔系数和霍尔迁移率随温度的变化.通过变磁场霍尔测量,分析了具有反型层Hg_(1-x)Cd_xTe薄膜的迁移率谱,证实了由于表面电子、体电子以及体空穴混合导电造成的反常霍尔性能.
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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