关键词：1；3；4-口恶二唑衍生物；合成；荧光性能；热稳定性
摘 要：设计和合成了两种新型的含有二甲基硅单元的口恶二唑类衍生化合物(SiOXD1和SiOXD2)以改善化合物的荧光性能和热稳定性。利用现代谱学方法和X-射线衍射分析确定了化合物的微观结构,通过傅里叶转换红外光谱、荧光光谱、紫外光谱和核磁共振分析表征了化合物的化学结构,利用热失重分析仪测试了化合物的热稳定性。分析结果表明:两种化合物表现出良好的荧光性能,荧光吸收波长分别在λEX280~325nm和λEM300~345nm左右。热失重分析表明,在空气氛围下,两种物质的失重温度区间分别在110~260℃和130~260℃左右。
内 容：原文可通过湖北省科技信息共享服务平台（http://www.hbstl.org.cn)获取