关键词：高纯氧化铝；纯化工艺；研究进展
摘 要：高纯氧化铝这种具有优良理化性质的精细化工产品在国内外发展速度相对之快。到目前为止，科学研究领域对它的定义还不能达成统一意见，大部分人认同高纯氧化铝是指纯度在4N以上而且颗粒均匀的超细粉体材料这一说法。高纯氧化铝因其具有较高的纯度、均匀细小的粒度，较大的比表面积和很好的热稳定性、力学性能而被广泛应用到许多高尖端科技领域，例如:高级陶瓷材料、催化剂、生物医疗、防护材料、半导体材料等等诸多领域。高纯氧化铝中的痕量杂质元素大多以氧化物的形式存在于氧化铝中，例如:Na2O、K2O、SiO2、Fe2O3、MgO、CuO、CaO等等。由于杂质元素的存在会严重影响了高纯氧化铝的物化性质，如:铁杂质元素的存在会使用氧化铝制备的发光材料的发光性能下降，钠和硅会分别导致氧化铝烧结瓷体介质损耗和烧结性能下降，以及氧化镁和氧化钙含量增多会使氧化铝减少等等，从而使高纯氧化铝无论是在使用范围还是使用环境方面大大受限。因此，各国的科研工作者对如何制备高纯氧化铝的工艺越来越重视。本文介绍了高纯氧化铝几种主要的制备方法中的纯化工艺，对各种工艺的优缺点进行了比较分析有利于更为先进技术的产生及应用。