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关于光刻机精细对准方法的研究
作者:鹿凯;王友旺; 作者单位:深圳深爱半导体股份有限公司; 加工时间:2013-12-20 信息来源:电子技术与软件工程
关键词:光刻机;;精细对准;;高精度
摘 要:近些年随着光科技术整体水平的提高以及科学技术的发展,人们对于光刻机精细对针技术系统提出了更多更高的要求,文章就从这个背景出发,首先针对目前光刻机需要高精度的对准系统进行相应的分析和设计探讨,同时提出了一些相对实用的办法,最终要求的是能够满足高精度光刻机的需求,为此文章对光刻机精细对准进行了进一步的深入研究。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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