X光单级衍射光栅的研究进展
作者单位：黄成龙,HUANG Chenglong(中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳621900;西南科技大学材料科学与工程学院,绵阳621010)张继成,曹磊峰,王红斌,ZHANG Jicheng,CAO Leifeng,WANG Hongbin(中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900)易勇,YI Yong(西南科技大学材料科学与工程学院,绵阳,621010)
加工时间：2013-10-15
信息来源：材料导报
关键词：X光单级衍射光栅;黑白透射光栅;电子束光刻;X射线光刻;X-ray single-order diffraction grating;black-white transmission grating;electron beam lithography;X-ray lithography
摘 要：介绍了单级衍射光栅的应用背景及其基本理论,分析了单级衍射光栅与传统黑白透射光栅的不同之处.阐述了单级衍射光栅的制作技术,分析了以电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术为主的工艺路线的优缺点.综述了X光单级衍射光栅的发展历程以及存在的问题,并指出了其未来的研究方向.
027-87841330