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表面光电压法研究氧化工艺铁离子沾污
作者:廖乃镘;林海青;向华兵;李贝;李仁豪; 作者单位:重庆光电技术研究所; 加工时间:2013-12-20 信息来源:半导体光电
关键词:电荷耦合器件;;氧化工艺;;Fe离子沾污;;表面光电压
摘 要:表面光电压法(SPV)能精确测量硅片的Fe离子浓度,是一种快速、非破坏性的高灵敏度测试方法。采用表面光电压技术研究了氧化工艺中的Fe离子沾污。研究表明,氧气、氮气、三氯乙烯中含有的微量杂质是氧化工艺中Fe离子沾污的主要来源。通过对氧气、氮气进行进一步纯化处理、减少三氯乙烯杂质质量分数到1.0×10-8、更换传输气体的不锈钢管路等措施,将氧化工艺Fe离子沾污减少了一个数量级。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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