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Na:O共掺杂AlN晶体的第一性原理研究
作者:徐百胜;闫征;武红磊;郑瑞生 作者单位:深圳大学光电工程学院;光电子器件与系统(教育部/广东省)重点实验室 加工时间:2015-01-30 信息来源:硅酸盐学报 索取原文[5 页]
关键词:氮化铝;第一性原理;电子结构;p 型掺杂
摘 要:基于密度泛函理论的第一性原理全势线性缀加平面波法,分别研究了AlN 在Na 单掺杂和Na:O 共掺杂情况下的晶格结构、电子态密度及能带结构。计算结果表明:Na 单掺杂AlN 和Na:O 共掺杂AlN 均为直接带隙半导体材料,且表现出p型掺杂特性;相比于本征AlN 晶体,两者的晶格结构均膨胀,而Na:O 共掺杂相对Na 单掺杂AlN 晶格膨胀较小;Na 单掺杂AlN 的价带顶态密度具有较强的局域化特性,不利于掺杂浓度的提高;与Na 单掺杂AlN 相反,Na:O 共掺杂AlN 的价带顶态密度局域化特性明显减弱,受主能级变浅,有利于AlN 的p 型掺杂。
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