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碱液环境下电化学腐蚀多晶硅的研究
作者:顾静琰;黄仕华; 作者单位:浙江师范大学材料物理系; 加工时间:2013-12-20 信息来源:半导体光电
关键词:多晶硅;;制绒;;电化学腐蚀
摘 要:主要介绍了在NaOH溶液中,利用电化学技术腐蚀制备多晶硅绒面的新方法。实验中,通过改变腐蚀液浓度、腐蚀电压、腐蚀温度等因素,制得一系列多晶硅绒面。实验结果表明,当腐蚀碱液浓度为20%,腐蚀电压为20V,腐蚀温度为25℃时,腐蚀得到的硅片表面比较均匀,在波长400~800nm范围内,测量得表面反射率最低为19%左右。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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