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光刻技术背后的投资机遇——另辟蹊径探索国产半导体产业链

加工时间：2023-12-14 信息来源：EMIS

索取原文[30 页]

关键词：国产半导体；DUV 光刻机；纳米工艺；刻蚀和沉积设备商；产业闭环
摘要：

华为 Mate 60Pro 手机的发行或意味着国产半导体产业链突破了 7 纳米制程工艺。我们通过对半导体设备和制造流程上的不同技术路线进行深入对比认为，国产 7 纳米制程逻辑芯片技术主要归功于国产半导体产业链突破了 DUV 光刻机从两次曝光到多次曝光条件下良品率和生产率的瓶颈问题。我们认为DUV光刻机多次曝光技术或催生对刻蚀和沉积设备的更多需求。

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