关键词：磁控溅射；NiO薄膜；氮气退火
摘 要：利用磁控溅射法,在K9玻璃基底上沉积氧化镍(NiO)薄膜.采用不同温度时氧化镍薄膜进行氮气退火,使用UV1700型分光光度计、JSM-6490LV型扫描电子显微镜、四探针电阻计等分析退火后氧化镍薄膜性能的变化.实验结果表明,500℃退火范围内,氧化镍薄膜的透过率随退火温度的升高明显增加,400℃时透过率达到最大在80％以上,且光学带隙最小,结晶度较高,薄膜成分变化较小,更适于太阳电池窗口层的应用研究.