溅射气压对HfO2薄膜结构和光学性能的影响
作者：苏玉荣；谢毅柱；赵海廷；刘利新；李健；谢二庆；马紫微
作者单位：兰州大学物理科学与技术学院电子材料研究所,兰州730000;兰州大学物理科学与技术学院电子材料研究所,兰州730000;运城学院物理与电子工程系,运城044000
加工时间：2013-12-15
信息来源：《材料导报》
关键词：HfO2薄膜；溅射法；光学性能；光学带隙
摘 要：HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系.薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响.所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级.薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85％.结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜.此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体.
027-87841330