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考虑MOS效应的锥型硅通孔寄生电容解析模型
作者:杨银堂;王凤娟;朱樟明;刘晓贤;丁瑞雪; 作者单位:西安电子科技大学宽禁带半导体材料与器件重点实验室; 加工时间:2013-12-20 信息来源:电子与信息学报
关键词:集成电路;;锥型硅通孔;;寄生电容;;MOS效应;;泊松方程
摘 要:该文采用求解泊松方程等数学方法,提出了考虑MOS效应的锥型硅通孔(TSV)寄生电容解析模型。基于铜材料TSV,对比了解析模型与Ansoft Q3D参数提取模型,得出在偏置电压为-0.4 V,0.5 V和1.0 V时,对于锥型TSV侧面倾角为75°,80°,85°和90°4种情况,多个参数变化时解析模型最大均方根误差分别为6.12%,4.37%,3.34%和4.84%,忽略MOS效应时,最大均方根误差分别达到210.42%,214.81%,214.52%和211.47%,验证了该解析模型的准确性和考虑MOS效应的必要性。Ansoft HFSS仿真结果表明,考虑MOS效应以后11S的最大减幅大约为...
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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