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平面玻璃窗口片光学表面零级疵病抛光工艺研究
作者:袁礼华;许健;董旭坤; 作者单位:重庆光电技术研究所; 加工时间:2013-12-20 信息来源:半导体光电
关键词:表面疵病;;研磨;;抛光;;超声波清洗
摘 要:总结了窗口片的抛光工艺现状,对玻璃窗口片的研磨、抛光和清洗原理及主要工艺因素进行了详细的分析。在考虑磨料、抛光辅料、环境、清洗工艺、抛光液浓度及pH值、磨盘转速、压力等多种工艺条件的基础上,进行了多次实验,并对抛光工艺改进前后的窗口片表面进行了扫描电镜(SEM)检测。结果表明,使用新抛光工艺加工的窗口片表面粗糙度、擦痕等微观缺陷明显得到改善,零级表面疵病标准的成品率达到23%。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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