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硅通孔尺寸与材料对热应力的影响
作者:袁琰红;高立明;吴昊;李明; 作者单位:上海交通大学电子信息与电气工程学院;上海交通大学材料科学与工程学院; 加工时间:2013-12-20 信息来源:半导体光电
关键词:硅通孔;;热应力;;三维集成封装;;有限元分析
摘 要:通过有限元分析研究了单个硅通孔及两片芯片堆叠模型的热应力。采用单个硅通孔模型证实了应力分布受填充材料(铜,钨)的影响,提出钨在热应力方面的优越性,确定了硅通孔尺寸(通孔直径、深宽比等因素)与热应力大小间的对应关系。为寻找拥有最佳热应力的材料组合,采用两片芯片堆叠的二维模型,对常用材料的组合进行了仿真分析,发现以二氧化硅为隔离层,钨为填充金属,锡为键合层的模型具有最理想的热应力特性,此外,铜、ABF以及锡的组合也表现出良好的热应力特性。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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