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用BP神经网络和遗传算法优化电沉积Cu-W的工艺参数
作者:李远会;郭忠诚;万明攀;黄碧芳;张晓燕; 加工时间:2015-06-10 信息来源:电镀与环保
关键词:BP-GA;电沉积;Cu-W;工艺参数
摘 要:用神经网络和遗传算法(BP-GA)优化电沉积Cu-W的工艺参数。结果显示:BP-GA预测结果与试验结果较接近,相对误差为9.05%,说明BP-GA优化电沉积工艺参数有较高的预测能力和准确度。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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