化学溶液沉积法制备Nd和Sc/Al/( Sc,Al)共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究
作者：晋玉星；胡增顺；杨桦
作者单位：开封大学公共计算机教研部,开封475004;开封大学公共计算机教研部,开封475004;开封大学功能材料研究中心,开封475004;开封大学软件技术学院,开封475004
加工时间：2013-12-15
信息来源：《材料导报》
关键词：铁电薄膜；共掺杂；BNT(Sc,AJ)薄膜；化学溶液沉积法
摘 要：利用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基底和700℃条件下分别制备了Nd和Sc/Al/( Sc,Al)共掺杂的钛酸铋薄膜Bi3.15 Nd0.85 Ti2.94 Sc0.06O12 (BNTSc)、Bi3.15 Nd0.85 Ti2.94 Al0.06O12(BNTAl)和Bi3.15Nd0.85 Ti2.94(Sc0.03,Al0.03)O12(BNT(Sc,Al)),并研究和对比了这一系列薄膜的微结构、介电、铁电和漏电流等特性.结果发现BNT( Sc,Al)薄膜具有较高的剩余极化强度和介电常数,其漏电流密度低于BNTAl薄膜.另外,还讨论了相关的物理机制.
027-87841330