绝缘层上Si/应变Si_(1-x)Ge_x/Si异质结p-MOSFET电学特性二维数值分析
作者:杨洲;王茺;于杰;胡伟达;杨宇;
加工时间:2015-09-10
信息来源:红外与毫米波学报
关键词:应变Si1-xGex沟道;p-MOSFET;阈值电压;扭结
摘 要:对绝缘层上Si/应变Si1-xGex/Si异质结p-MOSFET电学特性进行二维数值分析,研究了该器件的阈值电压特性、转移特性、输出特性.模拟结果表明,随着应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分增大,器件的阈值电压向正方向偏移,转移特性增强;当偏置条件一定时,漏源电流的增长幅度随着Ge组分的增大而减小;器件的输出特性呈现出较为明显的扭结现象.
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取