关键词：电阻层析成像；逆问题；区间算法；粒子群算法；遗传算法；惩罚函数
摘 要：为了提高电阻层析成像逆问题精度,利用基于区间算法与粒子群算法的改进遗传算法,优化有限元模型拓扑结构.以模型每一层半径为变量(最外层除外),分别以有限元平均质量、敏感场均匀分布时模型均方根值的倒数以及两者的乘积为适应度函数,并引入三角形最长边与最短边的比值作为惩罚函数.仿真与实际实验结果表明,相比传统按等间隔原理剖分的有限元模型及其改进模型,优化后的模型能有效提高逆问题的精度,且以敏感场均匀分布时模型均方根值的倒数为适应度函数效果最理想.