关键词：关 键 词: 等离子喷涂; YSZ 熔滴; 扁平粒子; 雷诺数中图分类号: TG174 文献标识码: A
摘 要：摘 要: 采用狭缝法收集不同工艺条件(雷诺数)下的氧化钇部分稳定的二氧化锆(YSZ)扁平粒子, 采用扫描电子显微镜(SEM)及三维激光显微镜观察形貌, 同时采用 Fluent 流体力学软件模拟不同雷诺数下 YSZ 熔滴的铺展和凝固过程, 研究雷诺数对扁平粒子形貌的影响规律。实验及计算结果表明: 当欧氏数大于 0.2 时, 雷诺数对 YSZ 熔滴的扁平化行为具有重要的影响作用, 熔滴飞溅的临界雷诺数为 450±20, 即当雷诺数小于 450±20 时, 熔滴呈圆盘状且不发生飞溅, 反之熔滴发生飞溅。对于粒径相同的 YSZ 熔滴, 超音速等离子喷涂(SAPS)获得的熔滴扁平率约为普通等离子喷涂(A...
内 容：原文可通过湖北省科技信息共享服务平台（http://www.hbstl.org.cn)获取