关键词：漆酶；化学修饰；酶活性；壳寡糖
摘 要：利用壳寡糖(COS)对纯化后的云芝漆酶(EC1.10.3.2)进行化学修饰以改善其活性和稳定性。最优化学修饰条件:温度5℃,pH=4.0,100mgNaIO4,20mgCOS。在此条件下得到的修饰酶(COS-TvL)的活性(456.00U/mg)为天然酶(TvL)活性(314.39U/mg)的145.04%。十二烷基磺酸钠聚丙烯酰胺凝胶电泳(SDSPAGE)结果表明，TvL的3条肽链相对分子质量为58100,45200和21600，而COS-TvL的3条肽链相对分子质量为62900,53300和39700，说明酶分子修饰成功，氨基修饰率为30.7%。TvL的最适pH值在4.0附近，而COS-TvL的最适pH值在3.5~4.0之间。TvL的最适温度为40℃，而COS-TvL的最适温度为45℃。动力学研究结果显示，TvL的Km=9.929mmol/L,vmax=714.29mmol/(mg·min)；而COS-TvL的Km=8.989mmol/L,vmax=1250mmol/(mg·min)。通过红外光谱、紫外吸收光谱、紫外差示光谱和荧光发射光谱对TvL和COS-TvL进行了结构表征。