KH560/KH570改性SiO2增透膜的制备
作者：刘世权；魏美英；王新敏；青双桂；郑海兴；罗仲宽
作者单位：济南大学材料学院,济南250022;浙江大学浙江加州国际纳米技术研究院,杭州310029;浙江大学浙江加州国际纳米技术研究院,杭州310029;深圳大学化学与化工学院,深圳518060
加工时间：2013-10-15
信息来源：《材料导报》
关键词：溶胶-凝胶法；增透膜；KH560；KH570
摘 要：以γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷(KH560)和γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH570)为改性剂,正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,盐酸(HCl)为催化剂,利用溶胶-凝胶法制备SiO2/KH560/KH570增透膜.研究了反应物配比对溶胶性能的影响,测试了薄膜的光学以及力学性能.结果表明,随着酸用量的增加,溶胶粘度增加,凝胶时间缩短;SiO2/KH560/KH570薄膜在波段350～800nm间平均透过率增加3％～4％,具有良好的增透效果,而且抗划伤能力强.
027-87841330