TiO2薄膜的LPCVD法制备、表征及光催化性能
作者单位:太原理工大学材料科学与工程学院,教育部界面科学与工程重点实验室,太原030024
加工时间:2013-11-15
信息来源:材料导报
关键词:低压化学气相沉积;TiO2薄膜;表面形貌;光催化
摘 要:采用简单易行的低压化学气相沉积法(LPCVD)在GaAs、Si和玻璃衬底上沉积了TiO2薄膜,通过HRXRD、FESEM、EDS等手段对薄膜进行表征,结果表明基片对薄膜的晶相和微观形貌有明显的影响.薄膜的光催化实验结果显示,在可见光的照射下,分解甲基橙溶液时,砷化镓基和硅基TiO2薄膜表现出更强的光催化活性.并探讨了基片对薄膜晶相、微观形貌、光催化活性的影响.