偏压对CrN/Si3N4纳米多层膜结构、硬度和断裂韧性的影响
作者单位：白晓明,佘辉,刘有军,濮春英,BAI Xiaoming,SHE Hui,LIU Youjun,PU Chunying(空军航空大学飞行基础训练基地,长春,130022)张成顺,ZHANG Chengshun(长春工业大学材料科学与工程学院,长春,130021)
加工时间：2013-12-15
信息来源：材料导报
关键词：CrN/Si3N4 微观结构;界面结构;力学性能;CrN/Si3N4;microstructure;interface;mechanical property
摘 要：利用磁控溅射法在不同基底偏压条件下制备了CrN/Si3N4纳米多层膜,分别用X射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪表征多层膜的微观结构及力学性能,结果表明,衬底偏压对CrN/Si3N4纳米多层膜微观结构、界面结构、硬度和磨损性能有重要影响.漂浮电位时多层膜界面粗糙,CrN呈(200)、(111)共同生长,硬度和弹性模量低,有偏压且变化时界面宽度和粗糙度变化不大,硬度和模量变化的主要原因是不同衬底偏压下的晶格畸变导致两层材料弹性模量变化和晶粒尺寸变化.基底偏压的优化有助于改善涂层的屈服应力和断裂韧性.
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