关键词：蓝宝石;;化学机械抛光;;抛光液;;磨料;;添加剂;;综述
摘 要：简介了蓝宝石化学机械抛光(CMP)的基本原理，从磨料、pH调节剂、表面活性剂、配位剂和其他添加剂方面概述了近年来蓝宝石CMP体系的研究进展，展望了蓝宝石CMP体系未来的研究方向。
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