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垒层Si掺杂对多量子阱InGaN绿光LED性能的影响
作者:郝锐;马学进;马昆旺;林志霆;李国强; 作者单位:华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室;江门奥伦德光电有限公司; 加工时间:2013-12-20 信息来源:半导体光电
关键词:绿光LED;;InGaN;;多量子阱;;Si掺杂;;量子限制Stark效应
摘 要:InGaN系绿光LED的量子阱结构具有较高的In含量,InN与GaN之间较大的晶格失配度使得绿光器件的量子限制Stark效应更显著。对内建电场的屏蔽可以有效提高载流子的辐射复合效率。论文探讨了绿光多量子阱中垒层的Si掺杂对绿光器件性能的影响。研究发现,多量子阱中垒层适度Si掺杂(3.4×1016 cm-3)可以改善多量子阱结构界面质量和In组分波动,在外加正向电流的作用下更大程度地屏蔽极化电场;同时,还能够增强电流的横向扩展性,提高活化区的有效发光面积。然而,多量子阱中垒层的过度Si掺杂对于绿光LED器件的性能带来诸多的负面影响,比如加剧阱垒晶格失配、漏电途径明显增加等,致使器件光效大幅度降低...
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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