制备工艺参数对镁合金表面沉积TiCN薄膜耐蚀性的影响
作者单位:重庆大学材料科学与工程学院,重庆,400045
加工时间:2014-06-15
信息来源:材料导报
关键词:磁控溅射;镁合金;TiCN薄膜;耐腐蚀性;magnetron sputtering;magnesium alloy;TiCN film;corrosion resistance
摘 要:采用射频磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积TiCN薄膜,研究了制备工艺参数对TiCN薄膜耐腐蚀性能的影响.结果表明,在Ti靶功率50 W,C靶功率50 W,N2流量20 sccm,溅射时间4.5h条件下,镀TiCN薄膜的镁合金基体具有最佳的耐蚀性,其在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀电流密度为1.664×10-6 A/cm2,比同等条件下纯锾合金基体的腐蚀电流密度(1.785×10-5 A/cm2)下降了1个数量级.