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铝屏蔽间隙对聚醚醚酮高能电子辐射下介质深层充电特性的影响
作者:卜文;王威望;李盛涛; 加工时间:2020-11-30 信息来源:高电压技术
关键词:电子辐射;介质深层充电;聚醚醚酮;铝屏蔽间隙;电荷积聚
摘 要:航天器电源系统、导电旋转机构等部件外层使用金属屏蔽层进行辐射防护,屏蔽层会影响电子辐射下介质充放电特性。为此以聚醚醚酮为研究对象,通过设置铝屏蔽层与介质之间的间隙,构建具有不同铝屏蔽与介质间隙结构的二维介质深层充电仿真模型;采用有限元分析方法仿真分析了电子辐射下,不同铝屏蔽间隙对聚醚醚酮充电特性的影响,并分析了工作电压极性的影响。结果表明,铝屏蔽距离越小,介质表面电荷积聚越严重,且积聚量随辐射时间增加而增大。当铝屏蔽接触介质时,介质表面电荷积聚量迅速减小,瞬时表面电荷会发生变化,随时间增加,表面电荷很小且基本不变,介质内部电荷也减小,同时,靠近铝屏蔽侧出现正负电荷峰。铝屏蔽不接触介质且工作电压为正极性时,表面电荷减少;为负时表面电荷增加。铝屏蔽接触介质和距离较远时有利于缓解介质充放电效应,提高航天器运行稳定性。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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