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Co-Mo共掺杂Al_2O_3电子结构及透射率的第一性原理计算
作者:方文玉;王晓雯;郑勤;高深; 加工时间:2020-01-15 信息来源:四川大学学报(自然科学版)
关键词:Al_2O_3;电子结构;光学性质;透射率
摘 要:采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理平面波超软赝势方法,计算了本征Al_2O_3,Co、Mo单掺杂以及Co-Mo共掺杂Al_2O_3的电子结构和光学性质.计算结果表明:Mo单掺杂以及Co-Mo共掺杂Al_2O_3的结合能较低,比较容易合成. Co、Mo掺杂均属于n型掺杂,能够提升掺杂体系的载流子浓度,改善Al_2O_3的导电性.掺杂体系的杂质能级主要由Co-3d态电子和Mo-4d态电子组成,这些杂质能级是改变掺杂Al_2O_3光学性质的内在原因.掺杂后,吸收光谱发生红移现象,且光学性质变化主要集中要低能量范围.本征Al_2O_3薄膜在200~800 nm范围内的透射率约为92%,Mo单掺杂和Co-Mo共掺杂Al_2O_3在600~780 nm波段内的透射率高达93%~98%,在200~280 nm的短波紫外光区域,Co单掺杂的透射率最高可达95%.因此,三种掺杂Al_2O_3适用于制备各类光学透射膜.
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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