ITO上电沉积Pd的成核机理及电催化性质
作者:林建航;汤儆;田晓春;刘跃强
作者单位:福州大学测试中心,福州350002;福州大学化学化工学院,教育部暨福建省食品安全和分析检测重点实验室,福州350108
加工时间:2014-04-15
信息来源:《高等学校化学学报》
关键词:氧化铟锡;钯纳米粒子;成核机理;电催化
摘 要:采用循环伏安技术和计时电流技术,研究了ITO上电沉积Pd的过程,发现Pd在ITO表面的电沉积是过电位成核且为不可逆的扩散控制过程;根据Cottrell方程计算得到[PdCl4]2-的扩散系数为2.19×10-5 cm2/s;根据Scharifker的理论模型,归一化处理电流-时间曲线,与理论成核曲线对照,判断Pd的成核机理.通过场发射扫描电子显微镜(FESEM)对Pd的形貌进行分析,讨论了沉积电位和沉积时间对Pd纳米粒子形貌的影响.用X射线粉末衍射(XRD)对Pd纳米粒子进行结构分析,并在0.5mol/L H2SO4溶液中研究了其电化学性质及在碱性条件下乙醇分子的电催化性质.