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巴比妥与4-乙烯基吡啶分子印迹聚合物的设计及性能评价
作者:苏婷婷;刘俊渤;唐珊珊;靳瑞发; 加工时间:2015-03-15 信息来源:高分子材料科学与工程
关键词:巴比妥;4-乙烯吡啶;分子印迹聚合物;模拟;吸附量
摘 要:采用量子化学密度泛函理论(DFT)的M062X/6-31G(d,p)方法,模拟巴比妥(BAR)印迹分子与4-乙烯基吡啶(4-Vpy)功能单体的相互作用,确定BAR与4-Vpy的最佳印迹比例为1∶3。然后,在60℃乙腈中采用1∶3印迹比例合成巴比妥分子印迹聚合物(BAR-MIPs),并对BAR-MIPs微球形貌、印迹识别性能及选择性能等进行表征。结果表明,BARMIPs为微球形状,粒径在120~390 nm之间;Scatchard分析表明,在研究的浓度范围内MIPs对模板BAR的结合位点是等价的,其离解平衡常数(Kd)与最大表观结合量(Qmax)分别为29.1 mg/L和13.1 mg/g;BA...
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