氮化时间对RF-MBE法生长InN薄膜晶体结构的影响
作者:高芳亮;管云芳;李国强;
作者单位:华南理工大学材料科学与工程学院发光材料与器件国家重点实验室;
加工时间:2013-12-20
信息来源:半导体光电
关键词:氮化铟;;氮化;;RF-MBE;;单晶薄膜
摘 要:采用射频等离子体分子束外延(RF-MBE)技术在蓝宝石(Al2O3)衬底上外延生长了InN薄膜,在生长之前对其进行不同时间的氮化处理。通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的形貌和结构进行了表征,发现氮化时间小于60min时获得的InN薄膜的晶体结构为多晶且表面粗糙,而氮化时间为60min及120min时获得的InN薄膜为单晶结构,表面粗糙度有所下降。分析表明,氮化时间对InN薄膜的晶体结构有很重要的影响。
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