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一种850nm氧化限制型垂直腔面发射激光器的设计
作者:丁锋;张靖;王品红;田坤;赵开梅; 作者单位:重庆邮电大学光电工程学院;重庆光电技术研究所; 加工时间:2013-12-20 信息来源:半导体光电
关键词:垂直腔面发射激光器;;量子阱;;氧化孔径;;阈值电流;;斜率效率
摘 要:采用PICS3D软件建立了850nm氧化限制型垂直腔面发射激光器(VCSEL)的仿真模型,通过优化量子阱有源区的阱和垒的个数、合理选取分布式布拉格反射镜(DBR)的材料以及对数,设计了一种850nm氧化限制型VCSEL。在10μm氧化孔径下,与商用的850nm氧化限制型VCSEL相比,其阈值电流从1.8mA降至1.5mA,斜率效率从0.3W/A提升到0.65W/A。
内 容:原文可通过湖北省科技信息共享服务平台(http://www.hbstl.org.cn)获取
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