关键词：化学机械抛光(CMP);镁合金;材料去除率;表面粗糙度;抛光液
摘 要：镁合金所表现出的轻质、高阻尼性、抗振、高导热性、抗电磁干扰、高电负性和易于回收等性能优势能很好的扩大镁合金在工业上的应用。良好的机械性能,使得镁合金在航天、航空以及3C等领域得到了广泛的应用。但是镁合金硬度低、软的特性会导致其在加工中表面很容易出现划伤、磨损。尤其在某些关键或非常重要的精密零部件加工中常常需要达到高精度且无缺陷的表面效果,而化学机械抛光技术(Chemical Mechanical Polishing,CMP)作为一种超精密的表面处理技术,能够很好的实现超大平面的全局平坦化加工,达到近乎完美的镜面效果。本文旨在采用理论与试验相结合的方法,完成对镁合金化学机械抛光中抛光液、抛光工艺...
内 容：原文可通过湖北省科技信息共享服务平台（http://www.hbstl.org.cn)获取