振荡剪切流场下PS/PVME/SiO2复合物的相行为
作者单位:四川大学高分子科学与工程学院,高分子材料工程国家重点实验室,成都610065
加工时间:2014-06-15
信息来源:高等学校化学学报
关键词:聚苯乙烯/聚甲基乙烯基醚共混物;SiO2纳米粒子;振荡剪切;相行为;Polystyrene/poly (vinylmethyl ether) blend;SiO2 Nanoparticles;Oscillatory shear flow;Phase behavior
摘 要:利用光学显微镜-剪切台联用系统研究了振荡剪切流场下聚苯乙烯(PS)/聚甲基乙烯基醚(PVME)/二氧化硅(SiO2)纳米粒子复合物的热力学稳定性.结果表明,小振幅振荡剪切可导致PS/PVME共混物出现类似在稳态流场下的剪切诱导相容及剪切诱导相分离现象.共混体系存在临界振荡频率ωc,当振荡频率低于ωc时,发生剪切诱导相分离(SID)行为,反之发生剪切诱导相容(SIM)行为.SiO2纳米粒子的加入使复合体系的相容性提高.存在一个临界SiO2纳米粒子含量φc,当SiO2纳米粒子含量高于φc时,复合体系中不存在临界振荡频率ωc,低振荡频率下的剪切诱导相分离得到抑制.此外,复合体系的上述行为与升温速率和共混物组成密切相关.