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芬顿辅助的化学机械抛光研究进展
作者:李银桃; 关浩龙; 郭英晖 加工时间:2025-01-16 信息来源:机电工程技术
关键词:芬顿反应;化学机械抛光;催化剂;磨料
摘 要:随着电子信息制造业的快速发展,对GaN、SiC等衬底材料的工件表面质量要求越来越高。芬顿辅助化学机械抛光广泛应用于各种材料的表面平坦化加工。与传统化学机械抛光相比,芬顿辅助化学机械抛光在硬脆性材料、难加工材料上的抛光上具有高质量、无亚表面损伤等显著的优势。通过对芬顿辅助的化学机械抛光方法的加工原理进行总结,系统阐述了不同因素对芬顿辅助的化学机械抛光效果的影响,包括芬顿反应液的催化剂种类、双氧水浓度、pH值,以及磨料等机械去除作用等因素。最后就芬顿辅助的化学机械抛光在之后的发展趋势提出了建议。
内 容:原文可通过湖北省科技资源共享服务平台(https://www.hbsts.org.cn/)获取
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