关键词：氧化铈;复合磨料;化学机械抛光;结构优化
摘 要：本文综述了近年来复合纳米氧化铈(CeO₂)磨料在化学机械抛光（CMP）领域的最新研究进展，总结了CeO₂复合磨料在结构组成及化学掺杂等方面对抛光性能的影响，阐述了不同种类CeO₂复合抛光粉的作用机制。认为具有良好抛光性能的CeO₂抛光磨料通常是通过核-壳结构或金属元素掺杂的形式进行优化。在不同的抛光工艺和抛光要求下，这两种形式都可有效提升CeO₂磨料抛光的速率和平坦度。最后对复合CeO₂抛光磨料领域主要存在的科学技术问题进行了总结，提出了今后的改进措施，并对其未来的发展进行了展望，未来复合CeO₂抛光粉将逐渐向定制化、可控化、功能化方向发展。
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