2702 篇
1106 篇
195310 篇
3430 篇
6334 篇
2256 篇
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10355 篇
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776 篇
2320 篇
1331 篇
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753 篇
1393 篇
2663 篇
2752 篇
4120 篇
光刻机，现代工业集大成者，亟待国产破局
光刻是半导体核心工艺，开发难度大，性能指标要求高。光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类；分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标，其中，分辨率直接决定制程，极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求，是光刻机最重要的指标，而套刻精度影响良率，产率影响光刻机的产能及经济性，此外，多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程，应用较为广泛。
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027-87841330