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基础化工行业：大陆晶圆代工厂成熟制程快速扩建，国产光刻胶企业迎来重大机遇 ——中国化工新时代系列报告之半导体光刻胶
半导体工业沿摩尔定律向前发展，光刻技术是基石。摩尔定律的延续离不开光刻技术的进步，目前全球最为顶尖且实现量产的光刻工艺为台积电的5 nm 制程工艺（2020 年），3 nm 制程工艺预计将于2022 年正式投产。而大陆方面，最为领先的晶圆代工企业中芯国际已于2021 年实现7 nm 制程工艺的突破，但仍与世界顶尖水平存在着约2 代技术的差距，对应的技术研发周期约为3-4 年。
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027-87841330