光刻胶是晶圆制造重要材料，行业壁垒高。光刻胶是晶圆制造重要材 料，承担“图形转移”重任。光刻胶种类繁多，专用性强。光刻的线宽 极限和精度决定了集成电路的集成度、可靠性和成本，因此摩尔定律 推动光刻胶技术不断加速迭代。同时光刻胶行业具备技术、客户、设 备及原料四大高壁垒。

1.光刻胶是晶圆制造重要材料，行业壁垒高 ..................................................... 4

1.1.构成：树脂、添加剂、光引发剂和溶剂是光刻胶主要原料 ........................... 4

1.2.应用及分类：光刻胶是光刻工艺核心材料，种类丰富专用性强 ................... 5

1.3.发展历程：摩尔定律推动光刻胶加速迭代 ....................................................... 8

1.4.行业壁垒：技术、客户、设备及原料四大高壁垒 ......................................... 10

2.光刻胶市场不断扩容，高端光刻胶亟需国产替代 ........................................ 14

2.1.下游三大领域共促发展，2022 年国内光刻胶市场有望超百亿 .................... 14

2.2.国内市场被日美垄断，高端市场亟需国产化 ................................................. 17

2.3.外企断供风险加剧，高端光刻胶迎国产化良机 ............................................. 21

3.以史为鉴，全产业链自主可控进步加速国产化 ........................................... 22

3.1.日本光刻胶崛起复盘：上下游协同发展加速国产替代 ................................. 22

3.2.下游：半导体+LCD 产业转移，驱动配套光刻胶需求 .................................. 23

3.3.中游：政策持续利好，国内光刻胶企业进入国产替代加速阶段 ................. 26

3.4.上游：原料和设备被外企垄断，部分企业自主可控进步 ............................. 29

4.关注具备先发优势及一体化优势企业 .......................................................... 31

4.1.行业竞争逻辑1：以史为鉴，行业高价值高壁垒凸显先发优势 .................. 31

4.2.行业竞争逻辑2：供应链安全逻辑凸显上下游一体化优势 .......................... 31

4.3.重点公司对比 ..................................................................................................... 32

4.4.行业投资策略 ..................................................................................................... 33