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基础化工材料制品行业：国内光刻胶市场规模持续扩大，半导体用光刻胶加速实现进口替代－深度报告
光刻胶是微细加工技术的关键性材料。光刻胶由溶剂、光引发剂、成膜树脂、添加剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶，由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到2 微米，因此正性光刻胶的应用更为普及。
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027-87841330