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基础化工材料制品行业:国内光刻胶市场规模持续扩大,半导体用光刻胶加速实现进口替代-深度报告
光刻胶是微细加工技术的关键性材料。光刻胶由溶剂、光引发剂、成膜树脂、添加剂组成,在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下,其溶解度发生变化,经适当溶剂处理,溶去可溶性部分,最终得到所需图像。光刻胶按显示的效果,可分为正性光刻胶和负性光刻胶,由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀,分辨率通常只能达到2 微米,因此正性光刻胶的应用更为普及。