2702 篇
1106 篇
195310 篇
3430 篇
6334 篇
2256 篇
2857 篇
543 篇
29923 篇
10355 篇
3226 篇
776 篇
2320 篇
1331 篇
452 篇
753 篇
1393 篇
2663 篇
2752 篇
4120 篇
行业技术升级加速应用渗透，直写光刻市场如日方升
目前，主要微纳制造技术包括图案化技术、化学机械抛光技术以及薄膜沉积技术等，其中，光刻技术是图案化技术的核心。光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将设计好的微图形结构转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上的微纳制造技术，用它加工制造的器件包括：芯片、显示面板、掩模版、PCB 等。光刻技术的主要工艺流程包括预处理、涂胶、曝光、显影、刻蚀和去胶等系列环节，各工艺环节互相影响、互相制约，其中曝光是光刻技术中最重要的工艺环节。
索取原文[24 页]
027-87841330